光学带材边缘测量 EMG EVK 与带材中心测量 EMG EVM

EMG EVK & EVM

EVK和EVM是您非接触式卷材边缘与中心控制的理想选择:光学精度高,抗干扰能力强——运行可靠。

工作原理

EMG EVK对边传感器定位装置和EMG EVM对中传感器定位装置通过非接触方式,分别对金属板带的边部位置和中心位置进行控制。

EMG EVK和EVM具有很强的抗外部干扰能力,它们通过光学方式检测板带边部位置和中心位置的变化。

一台由电机驱动的接收器调整单元负责对板带边缘进行光学检测。该单元配备一个光障,可以检测板带边部发生的横向位移。

EMG EVK边缘定位器和EMG EVM中心定位器的附加组件为线性光发射器。

客户利益

  • 测量结果精确可靠,对板带高度变化不敏感
  • 传感器和光源之间的距离最大可达4米(传感器间隙)
  • 可靠性高,操作简便
  • 安装快速简单(最小安装空间),可缩短调试时间
  • 通过参考测量原理实现主动污垢补偿
  • 通过高频交变光来防止外来光线影响
  • 适合在恶劣环境中使用(如酸洗线、冷轧厂)

EMG EVK 和 EVM——代表:非接触式、大传感器间距、精确、抗杂光——久经考验的可靠技术。

延斯-卡索尔
产品经理
Jens Kathol